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              高真空蒸發鍍膜儀的設計讓其操作更容易實現

              發布時間:2020-09-17

              閱讀:507

                高真空蒸發鍍膜儀是全自動程序控制,彩色觸摸屏界面,操作簡單,它可以鍍金(AU),鉑(PT)和其他非氧化的貴金屬,也可以鍍銥(IR),鉻(CR),鋁(AL)和其他易氧化膜材料的細顆粒。它特別適用于場發射電子顯微鏡,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品制備,還可以為薄膜應用和其他材料領域提供理想的涂層平臺。
                高真空蒸發鍍膜儀是一種多功能系統,具有靈活性和模塊化擴展性,可適應不同的樣品制備,它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件進行碳蒸發和金屬蒸發??梢詰靡幌盗行兄行У募夹g,包括碳鍍層和TEM覆層,碳/金屬蒸發,低角度和使用雙源蒸發的順序涂層,可選的濺射鍍膜附件可應用于多種目標。它的設計讓其操作更容易實現。
                1、通過使用微處理器控制器增強了系統的靈活性,用戶可以輕松添加各種選項。但是,這些“默認”操作已得到優化,因此自動和手動操作都可以實現操作。
                2、獨特的抽屜式樣品裝載系統,方便用戶放入各種樣品,鉸鏈頂蓋結構易于觸及系統的其他區域。
                3、渦輪分子泵安裝在系統外部,高真空蒸發鍍膜儀可以輕松安裝和更換。它的前真空是旋轉真空泵。整個泵送過程是全自動控制的,達到高真空后會蒸發。該儀器是臺式的,使用中的疏忽很容易控制并且容易損壞。
               
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