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              真空管式爐三個真空系統的差異

              發布時間:2018-12-13

              閱讀:716

                 真空管式爐的獨特設計能夠實現在真空保護條件下對樣品快速升降溫,四面加熱,溫場更均勻,立式結構使得氣體排放更加順暢,爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性,可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點,特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要。
                由于真空管式爐的種類是比較多的,并且每個對真空管式爐的真空系統要求都是不一樣的,所以咱們就真空度而言,有低真空,中真空,高真空三個系統。下面來詳細說下這三個真空系統的差異。
                1、低真空系統
                真空管式爐的低真空系統適用于規劃的真空管式爐,如預抽低真空井式爐,大多以油封式旋轉機械泵為主泵。
                2、中真空系統
                中真空系統適用于真空度在規劃的真空管式爐,中真空系統在真空管式爐的運用中是比較廣泛的,一般由兩級真空泵機組組成。初級泵多選用旋轉機械泵或滑閥式機械泵,主泵為機械增壓泵或油增壓泵。
                3、高真空系統
                高真空系統一般由三級真空泵機組組成,主泵一般選用油渙散泵,離子泵,初級泵大都也是選用旋轉機械或滑閥式機械泵。真空管式爐的真空系統咱們是否有所了解呢?咱們可以做個參看,然后依據自己的需求來挑選合適的真空系統。
                真空管式爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,應用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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