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              從雙靶磁控濺射儀的原理到使用,這篇文章會讓你有個充分了解

              發布時間:2021-04-20

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                雙靶磁控濺射儀主要由陶瓷靶/電解液制備部分,電極膜沉積系統和惰性氣氛手套箱組成,主要組件包括有機/金屬源蒸發沉積室,真空排氣系統和真空測量系統,蒸發源,樣品加熱溫度控制,電氣控制系統,氣體分配系統,高溫燒結爐,手套箱等零件。通過采用其中真空沉積室被手套箱包裹的結構模型,將熱蒸發沉積室放置在手套箱中。在水和氧氣≤1PPM的氣氛中,可以更方便地完成:更換樣品,更換蒸發材料,連續制備鋰和金屬薄膜,陶瓷燒結和電池包裝;沉積室也可以通過過渡室取出。由于保護了惰性氣氛,因此在實驗中可以提高高質量薄膜制備和包裝的效率。
                雙靶磁控濺射儀是一種新開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜,導電薄膜,合金薄膜,半導體薄膜,陶瓷薄膜,介電薄膜,光學薄膜和氧化物薄膜,硬膜,聚四氟乙烯膜等。與同類設備相比,不僅用途廣泛,而且具有體積小,操作簡便的優點。它是用于實驗室制備材料薄膜的理想設備。配備有兩個靶槍,一個是輔助射頻電源,用于非導電靶的濺射鍍膜,另一個是輔助直流電源,用于對導電材料的濺射鍍膜;它可以制備各種薄膜,具有廣泛的應用范圍;體積小,操作簡單。
                1、真空室具有前后門雙開結構,便于設備維護以及實驗樣品的安裝和更換,已安裝一個具有自傳功能的樣品臺。真空室的組件,包括蒸發源,分子泵吸氣口,真空測試探針和膜厚測試探針,都具有合理的布局。真空室的真空度可以達到10-5Pa,關閉12小時后泄漏率小于或等于5Pa。
                2、有4套蒸發源,包括2套束流源爐和2套鎢絲加熱蒸發舟。蒸發溫度的控制精度為±1℃。蒸發源采用全封閉結構,完全消除了交叉污染。
                3、濺射方法包括射頻和直流:自動阻抗匹配可以在射頻模式下完成;直流電源功率為2kw。
                4、樣品臺具有旋轉,提升和加熱的功能,并具有在線更換面罩的功能,并且面罩可以無間隙地粘合到樣品上。樣品臺可以同時加載四個樣品,每個樣品都有一個獨立的擋板,并且可以通過操縱器在線控制開關。
                5、樣品加熱系統配備了精度為±1℃的樣品加熱電源。
                6、膜厚測試組件可以實現膜厚的原位檢測。
                7、雙靶磁控濺射儀具有水壓檢測,缺相保護和誤操作保護等功能。
                8、手套箱部件可以達到的水和氧氣值小于1ppm。
                9、內置手套箱高溫爐,爐體尺寸為15*15*15cm,高溫度可達1400℃。
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