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        首頁 > 產品中心 > 薄膜制備全套設備 > 磁控濺射鍍膜設備 > VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

        雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

        簡要描述:VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

        • 產品型號:VTC-600-2HD
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2021-11-15
        • 訪  問  量:1090
        詳細介紹

        技術參數

        結構

        (點擊圖片查看詳細資料)

        輸入電源

        • 220VAC 50/60Hz, 單相
        • 2000W  (包括泵)

        濺射電源

        • 安裝有兩個濺射電源
        • 直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
        • 射頻(RF)電源:600W,可制作氧化物和金屬膜
        • 同時可選配300W的射頻電源

        磁控濺射頭

        • 儀器中安裝有2個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水對靶材降溫
        • 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
        • 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
        • 靶材尺寸要求:金屬靶:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
        •              陶瓷靶:直徑為50mm,zui大厚度6mm
        • 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
        • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)

        也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭,訂購前需于本公司銷售人員

        真空腔體

        • 真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作
        • 觀察窗口:  100 mm diameter
        • 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

        載樣臺

        • 載樣臺尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底)
        • 載樣臺可以旋轉,其速度為:1 - 20 rpm (可調)
        • 載樣臺zui高可加熱溫度為500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

        氣體流量控制器

        • 儀器內部安裝有2個質量流量計
        • 量程為:0-200sccm
        • 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

        真空泵系統

        配有一套分子泵系統(德國制作),采用一鍵式操作

        薄膜測厚儀

        • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å  
        • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據

        外形尺寸

        L1300mm× W660mm× H1200mm

        重量

        160 kg

        質保期

        一年質保期,終生維護

         

         

         

         

        產品咨詢

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