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        1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

        簡要描述:VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2021-11-15
        • 訪  問  量:1208
        詳細介紹

        VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

        我們用此設備得到擇優取向的ZnO薄膜

        技術參數

        輸入電源

        • 220VAC 50/60Hz, 單相
        • 800W  (包括真空泵)

        等離子源

        • 一個100W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動柜內
        • 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動匹配)
        • 可選配300W射頻電源(自動匹配)
        • 注意:100W手動調節的RF(射頻)電源價格較低,但是每一次對于不同的靶材,都需要手動設置參數才能產生等離子體,比較耗費時間。300W自動匹配的RF(射頻)電源,價格較昂貴,但比較節約時間。
        • (點擊圖片查看詳細資料)

        磁控濺射頭

        • 一個1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
        • 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
        • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3)
        • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
        • 同時可選配2英寸濺射頭
        • 選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,zui大厚度6mm  
             

        真空腔體

        • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
        • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
        • 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
        • 真空度:<1.0*10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵)
        •          <5*10-5 torr (采渦旋分子泵)

        載樣臺

        • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱
        • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
        • 旋轉速度:1 - 20 rpm
        • 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃
        • 控溫精度+/- 10℃
        •  

        真空泵

        可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統

          

        薄膜測厚儀

        • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
        • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
        •  

        質保和質量認證

        • 一年質保期,終生維護
        • CE認證

        使用注意事項

        • 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
        • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次,可有效減少真空腔體中的氧含量
        • 請用純度大于5N的Ar來進行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統過后,再導入到真空腔體內
        •  
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