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              500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

              簡要描述:VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

              • 產品型號:
              • 廠商性質:生產廠家
              • 更新時間:2021-11-15
              • 訪  問  量:957
              詳細介紹

              VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
              用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

               技術參數

              輸入電源

              • 220VAC 50/60Hz, 單相
              • 1000W  (包括真空泵)

              等離子源

              • 一個500W,600V的直流電源安裝在移動柜內(點擊圖片查看詳細資料)

              磁控濺射頭

              • 一個2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
              • 靶材尺寸直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
              • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作,見圖左3
              • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機)
              • 同時可選配1英寸濺射頭
                   

              真空腔體

              • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
              • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
              • 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體,以屏蔽等離子體
              • 真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵), 10-5 torr (采渦旋分子泵)

              載樣臺

              • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱
              • 載樣臺尺寸:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
              • 旋轉速度:1 - 20 rpm
              • 樣品的zui高加熱溫度為700℃,(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500
              • 控溫精度+/- 10℃

              真空泵

              可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統
                    

              薄膜測厚儀

              • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  
              • LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據
                 

              外形尺寸

                   

              重量70Kg

              質保和質量認證

              • 一年質保期,終生維護
              • CE認證

              使用注意事項

              • 為了得到較好的金屬膜,特別是針對易氧化的金屬,如Al, MgLi等,必須通入高純惰性氣體(> 5N
              • 強烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統過后,再導入到真空腔體內)
              • 我們也可在設備中安裝射頻(RF)電源,用于濺射非導電靶材,來制備非金屬薄膜
                  
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